Inicia curso sobre “Los recursos en el sistema pena acusatorio”

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Con el objetivo de dominar la tramitación de los recursos penales según el nuevo Código Procesal Penal de Panamá y reconocer la importancia de los mismos en el proceso penal acusatorio, el programa Formadores Interinstitucionales del Sistema Penal Acusatorio -FISPA- inició el lunes 29 de febrero de 2016, en la ciudad de Santiago, provincia de Veraguas. El curso denominado “Los recursos en el sistema pena acusatorio” fue dirigido a funcionarios del Órgano Judicial y del Ministerio Público.

Al dar las palabras de bienvenida a los participantes, la licenciada Walleska Hormechea de la Sección Antinarcóticos y Aplicación de la Ley de la Embajada de los Estados Unidos en Panamá, que lleva adelante el programa Justicia, del cual forma parte FISPA, reiteró la importancia del curso, que se extenderá hasta el viernes 4 de marzo, con la participación de reconocidos expositores nacionales, y como invitado internacional expondrá el licenciado Fernando Tribin, de la República de Colombia.

La licenciada Waleska Hormechea señaló que FISPA inició en el año 2014 y cuenta con tres grupos, donde el primero tiene a su cargo el curso de formación integral del sistema penal acusatorio para funcionarios del Órgano Judicial, Ministerio Público, la Policía Nacional, Instituto de Medicina Legal y Ciencias Forenses.

Por su parte, el segundo grupo tiene a su haber cuatro módulos, y el tercero, que está a cargo de este módulo denominado “Recursos”, también tiene otros como: Acuerdos de Penas; Medidas Cautelares y “La Teoría del Delito Aplicada”.

En este contexto, agregó que los tres grupos interaccionan entre sí, y todos los módulos se ofrecerán en todas las provincias, en el transcurso del año, y cada módulo se replica seis veces en todo el país, como parte de la capacitación interinstitucional que se ha coordinado.

En esta jornada académica, al expositor colombiano Fernando Tribin lo acompañarán los panameños Mario Batista, Rodrigo Frago, Jacob Orribarra, y Julio Villarreal.